چیندستگاه ترکیب شیمیایی بخار پلاسما مایکروویو 10 کیلووات برای رشد مصنوعی الماس (CVD/MP-CVD)
10kw-CVD/Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition Equipment/Artificial Diamond Equipment
قیمت مرجع در مبدا:$ 149,000-206,000
این قیمت شامل هزینه‌های حمل و ترخیص نیست.
جهت نمایش برآورد هزینه واردات و دریافت پیشنهاد قیمت، استعلام خود را ثبت کنید.
حداقل سفارش: ۱ واحد
مشخصات کلیدی
دما
1000 تا 2000 درجه سانتی‌گراد
مدل
AT-61015
توان پلاسما
10 کیلووات
محل نصب
آزمایشگاه یا کارخانه با فضای کافی و تهویه مناسب
سیستم خلاء
پمپ خلاء دو مرحله‌ای با عملکرد بالا
نوع فرآیند
CVD (ترکیب شیمیایی بخار)، MP-CVD (پلاسما مایکروویو-ترکیب شیمیایی بخار)
سیستم ایمنی
سیستم قطع اضطراری، کنترل فشار و دما، هشدار صوتی و نوری
سیستم کنترل
کنترل دیجیتال با نمایشگر لمسی و نرم‌افزار کنترلی اختصاصی
مشخصات فنی
| دما | 1000 تا 2000 درجه سانتی‌گراد |
| مدل | AT-61015 |
| محل نصب | آزمایشگاه یا کارخانه با فضای کافی و تهویه مناسب |
| سیستم خلاء | پمپ خلاء دو مرحله‌ای با عملکرد بالا |
| نوع فرآیند | CVD (ترکیب شیمیایی بخار)، MP-CVD (پلاسما مایکروویو-ترکیب شیمیایی بخار) |
| توان پلاسما | 10 کیلووات |
| سیستم ایمنی | سیستم قطع اضطراری، کنترل فشار و دما، هشدار صوتی و نوری |
| سیستم کنترل | کنترل دیجیتال با نمایشگر لمسی و نرم‌افزار کنترلی اختصاصی |
| کاربرد اصلی | رشد الماس مصنوعی، ساخت مواد نیمه‌هادی، پوشش‌های سخت و مقاوم در برابر سایش |
| کشور سازنده | چین |
| ساختار دستگاه | بدنه فلزی ضدزنگ با سیستم عایق حرارتی و سیستم خنک‌کننده آبی |
| سیستم تامین گاز | سیستم کنترل دقیق جریان گاز با فیلتر و مانیتورینگ فشار |
| محدوده فشار کاری | 10 تا 1000 پاسکال |
توضیحات
این دستگاه CVD/MP-CVD با توان 10 کیلووات، برای رشد لایه‌های مصنوعی الماس و مواد نیمه‌هادی پیشرفته طراحی شده است. با استفاده از پلاسما مایکروویو، امکان ایجاد شرایط واکنشی دقیق و یکنواخت در دمای کنترل‌شده فراهم می‌شود. این دستگاه به‌ویژه در صنایع الکترونیک، سنسورهای حساس، ابزارهای بیولوژیکی و مواد پیشرفته کاربرد دارد.
طراحی آن برای کار در محیط‌های آزمایشگاهی و تولید کوچک تا متوسط مناسب است.