فرن فرآیند لایه‌اندازی شیمیایی بخار افقی مطمئن برای فرآیندهای تDeposit مواد با کارایی بالا

Reliable Horizontal CVD Furnace for Efficient Material Deposition Processes
قیمت مرجع در مبدا:$ 35,000

این قیمت شامل هزینه‌های حمل و ترخیص نیست.
جهت نمایش برآورد هزینه واردات و دریافت پیشنهاد قیمت، استعلام خود را ثبت کنید.

حداقل سفارش: ۱ واحد

مشخصات کلیدی

مدل
AT-61090
فشار کاری
10-5 تا 1 اتمسفر
مواد ساخت
آلیاژ
نوع دستگاه
فرن لوله‌ای
کاربرد
صنعت، آزمایشگاه، مراکز آموزشی و پژوهشی
کنترل دما
کنترل PID با دقت ±1 درجه سانتی‌گراد
سیستم ایمنی
سیستم قطع اضطراری، هشدار دما و فشار، سیستم جلوگیری از ورود هوا به داخل کوره
سیستم کنترل
کنترل دیجیتال با نمایشگر لمسی و نرم‌افزار کنترلی اختصاصی

مشخصات فنی

مدلAT-61090
کاربردصنعت، آزمایشگاه، مراکز آموزشی و پژوهشی
فشار کاری10-5 تا 1 اتمسفر
مواد ساختآلیاژ
کنترل دماکنترل PID با دقت ±1 درجه سانتی‌گراد
نوع دستگاهفرن لوله‌ای
سیستم ایمنیسیستم قطع اضطراری، هشدار دما و فشار، سیستم جلوگیری از ورود هوا به داخل کوره
سیستم کنترلکنترل دیجیتال با نمایشگر لمسی و نرم‌افزار کنترلی اختصاصی
کشور سازندهچین
نوع منبع گرمامقاومت الکتریکی با پوشش سرامیکی
ساختار دستگاهبه‌روز و پیشرفته
سیستم خروج گازسیستم تخلیه با فیلتر و سیستم جذب گازهای آلاینده
سیستم ورود گازسیستم کنترل دقیق جریان گاز با مانیتورینگ فشار و دما
سیستم خنک‌کنندهسیستم خنک‌کننده هوا یا آبی با کنترل خودکار
محدوده دمای کاری200 تا 1200 درجه سانتی‌گراد
اندازه داخلی کورهطول: 1200 میلی‌متر، قطر: 150 میلی‌متر
قابلیت سفارشی‌سازیبله

توضیحات

فرن CVD افقی مدل AT-61090 با ساختار لوله‌ای و سیستم گرمایش پیشرفته، برای فرآیندهای لایه‌اندازی شیمیایی بخار (CVD) در تولید مواد نیمه‌هادی، پوشش‌های مقاوم و مواد نوین طراحی شده است. این دستگاه با استانداردهای صنعتی و قابلیت سفارشی‌سازی برای نیازهای خاص کاربران، در محیط‌های صنعتی، آزمایشگاهی و آموزشی کاربرد دارد. ساختار آلیاژی و طراحی به‌روز، دوام و کارایی بالای دستگاه را تضمین می‌کند.